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?掩膜版有多個(gè)名稱(chēng)，也稱(chēng)作光刻掩膜版、光罩、光刻版、掩膜基板、光掩模等等，是用來(lái)制作掩膜圖形的面板，常在芯片制作過(guò)程中使用，是圖形轉(zhuǎn)移的工具。

掩膜版的制作是有工程師自己設(shè)計(jì)圖形提交，光刻機(jī)進(jìn)行掩膜版制作將圖形加工在掩膜版上，掩膜版制作完畢后通過(guò)曝光等工藝，將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移至硅片或其他載體上，從而進(jìn)行后續(xù)的加工工藝。