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2021-11-19

　　光刻就是利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕將光掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟。 光...

2021-11-08

　　電子束光刻技術(shù)又被稱(chēng)為電子束曝光，這種工藝是利用電子束，在已經(jīng)進(jìn)行過(guò)清洗、涂膠的硅片或者其他襯底上直接進(jìn)行圖形繪制或投影復(fù)制圖形的技術(shù)，...

2021-10-22

　　 光刻掩膜版 ，也通常稱(chēng)為掩膜板，它是我們?cè)谖⒓{加工技術(shù)中常用的光刻工藝中使用的圖形的母版。 通常對(duì)掩膜版的基本求如下： （1）精度高：圖形...

2021-10-15

　　 掩膜版 早期是以1:1的比例緊貼在硅晶圓上，通常由各個(gè)半導(dǎo)體公司自行設(shè)計(jì)工具來(lái)進(jìn)行掩膜版曝光，GCA、KS和Kasper等公司也會(huì)提供部分相關(guān)設(shè)備。直...
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