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電子束光刻技術又被稱為電子束曝光，這種工藝是利用電子束，在已經(jīng)進行過清洗、涂膠的硅片或者其他襯底上直接進行圖形繪制或投影復制圖形的技術，因為曝光系統(tǒng)是直接產(chǎn)生圖形的，所以不需要掩膜版呢。
光刻掩膜版的性能指標
光刻對掩膜版的要求是什么?
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