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　　光刻就是利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕將光掩膜上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上，是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟。光刻掩膜板的基本原理是利用光刻膠感光后發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)而具備耐蝕性的特點(diǎn)，將掩膜版上的圖形刻制到被加工表面上。所以光刻機(jī)主要性能指標(biāo)與光源及機(jī)器精度密切相關(guān)。

　　與光源相關(guān)的性能指標(biāo)有：光源波長、光強(qiáng)均勻性。

　　與機(jī)器精度相關(guān)的性能指標(biāo)有：光刻精度、曝光方式、對準(zhǔn)精度