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光刻掩膜版清洗一般使用掩膜版清洗液,是有專門的額清洗機(jī)器的。首先將掩膜版放入掩膜版清洗機(jī)一邊沖洗一邊旋轉(zhuǎn),將污染顆粒沖洗干凈,之后在高速旋轉(zhuǎn)烘干。目前而言,掩膜版清洗機(jī)可以清洗的掩膜版尺寸包括3寸,4寸,5寸,6寸的掩膜版。
制作光刻掩膜版用什么設(shè)備?
掩膜版有光刻膠影響曝光嗎?
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