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掩膜版有光刻膠影響曝光嗎？

【2022-06-21】

光刻是一門比較綜合的技術(shù)，它采用照相復(fù)印的技術(shù)，將光刻掩膜版上的圖形復(fù)制在涂有光刻膠的金屬蒸發(fā)層上。如果掩膜版受光刻膠污染，很大程度上會(huì)影響曝光，帶來負(fù)面影響，因此光刻過程中需要保持掩膜版的干凈。

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