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2021-12-24

　　集成電路設(shè)計(jì)包括芯片硬件設(shè)計(jì)和軟件協(xié)同設(shè)計(jì)兩部分。 　　芯片硬件設(shè)計(jì)包括： 　　功能設(shè)計(jì)→設(shè)計(jì)描述和行為級(jí)驗(yàn)證→邏輯綜合→門級(jí)驗(yàn)證→布局和...

2021-12-11

光刻工藝 掩膜版 制造大概分為7個(gè)步驟 ： ① 提供掩膜基板，在基板上涂覆一層光刻膠； ② 對(duì)步驟①所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，形成光刻膠圖案； ③ 采...

2021-12-03

　　2003年， 光刻掩膜版 的90nm工藝的主流光刻技術(shù)是193nm準(zhǔn)分子激光掃描分布投影光刻機(jī)（ArF Scanner），全球的光學(xué)光刻機(jī)巨頭Nikon、ASML和CANON都...

2021-11-26

　　在集成電路制造中，光刻技術(shù)是利用光學(xué)、化學(xué)、物流的一系列反應(yīng)原理和方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成目標(biāo)功能圖形的工藝技術(shù)。...
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