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掩膜版的制作首先需要提供掩膜基板,常見的掩膜基板有石英和蘇打兩種材料。
光刻過程則需要根據(jù)實(shí)際圖案選擇合適屬性的光刻膠,以完成曝光、顯影。
得到光致刻蝕圖案后,則需要使用特殊的化學(xué)試劑對(duì)初始掩膜版下表面進(jìn)行刻蝕。
制作光刻掩膜版用什么軟件畫圖?
光刻掩膜版制作方法
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