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　　光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠，在做工藝時，使用正性光刻膠，光刻掩膜版上透光區(qū)域的光刻膠會被顯影掉，蒸發(fā)金屬時透光區(qū)域區(qū)域留下金屬Cr，反之，使用負性光刻膠，光刻掩膜版上不透光區(qū)域的光刻膠會被顯影掉，蒸發(fā)金屬時不透光區(qū)域區(qū)域留下金屬Cr。圖形不透光，稱為亮場掩膜版，圖形透光則被稱為暗場掩膜版。