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業(yè)內(nèi)人士分析稱，EUV光刻機(jī)算得上是有史以來人類所發(fā)明的最精密的儀器，不僅重量高達(dá)180噸以上，而且光是核心零部件就超過了10萬個(gè)，更是集合了多國的高精尖技術(shù)才研發(fā)出來的。M國曾有位工程師說，他為光刻機(jī)調(diào)整一個(gè)零件就花費(fèi)了整整10年的時(shí)間。EUV光刻機(jī)的難度可想而知。

所以全球光刻機(jī)領(lǐng)域的佼佼者ASML才說：“就算把圖紙給你們，你們也不可能造出光刻機(jī)”。事實(shí)真是如此嗎？其實(shí)我國早就制造出了90nm的光刻機(jī)，28nm的也取得了關(guān)鍵突破。我們國家要想制造出EUV光刻機(jī)，就需要集齊光刻機(jī)所需高精尖技術(shù)的全套人才，這個(gè)數(shù)字是非常龐大的，所以任正非才說：黃刻機(jī)只是工程制造問題，花時(shí)間就能解決，中國真正缺的是人才。

其實(shí)在華為被斷供前，大家都對ASML和臺積電不了解，現(xiàn)在算是知道了什么才是芯片的制高點(diǎn)，而會設(shè)計(jì)芯片只不過是學(xué)會了皮毛而已。所以從華為被打壓后，國內(nèi)廠商都開始明白，想要在經(jīng)濟(jì)全球化時(shí)代脫穎而出，顯然離不開自主研發(fā)，還有手握核心技術(shù)才能夠走的更遠(yuǎn)，才不畏懼別人的“技術(shù)封鎖”。

現(xiàn)在讓ASML意想不到的是，國內(nèi)在光刻機(jī)領(lǐng)域真的在發(fā)力了，日前中國電子科技傳出好消息，離子注入機(jī)取得了重大突破，實(shí)行了100%國產(chǎn)化。雖然28nm工藝制程光刻機(jī)還沒達(dá)到國際一流水平，但也是一個(gè)重要的信號，就是國內(nèi)已經(jīng)在光刻機(jī)領(lǐng)域要自主創(chuàng)新，不再依賴進(jìn)口。

無疑是讓國內(nèi)更多廠商看到了希望，不依靠別人照樣能夠自主研發(fā)，雖然在7nm、5nm工藝制程上與西方還有很大的差距，但是隨著國內(nèi)廠商堅(jiān)持不懈地投入到自主研發(fā)，而全球的“芯片慌”更是給我們營造了“彎道超車”的好時(shí)機(jī)。

轉(zhuǎn)載自騰訊網(wǎng)-云舊時(shí)光青池