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目前掩膜版清洗常用的方法是使用氫氧化鉀溶液進行沖洗，然后再在掩膜版光學(xué)檢測設(shè)備中進行檢查，檢查結(jié)果不合適后再次投入氫氧化鉀溶液進行二次清洗，而過檢查結(jié)果依舊不合格，再次重復(fù)清洗，直至檢查結(jié)果合格。

氫氧化鉀溶液對于一般的有機物清洗的效果較好，但是對于其他有機物清洗效果一般，比如油污類的臟污，如果出現(xiàn)油污類的臟污需要進行反復(fù)多次清洗，這樣對于掩膜版也有造成一定得損傷。

針對有機物的臟污，可以使用四甲基氫氧化銨溶液進行清洗，但成本較高，所以在掩膜版一般儲存在潔凈室內(nèi)，使用過程中也應(yīng)輕拿輕放。