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光刻版、掩膜版沒有區(qū)別,是同一個東西,都是光刻掩膜版,又被稱作光罩、MASK、photo mask,常見的材質(zhì)有石英玻璃和蘇打玻璃,是制作芯片過程中,光刻所需的圖形轉(zhuǎn)移工具。蘇州硅時代電子科技有限公司(Si-Era),集高精度掩模版的設計、研發(fā)、制作與服務為一體,強大的生產(chǎn)力可實現(xiàn)三天交付,客戶提供質(zhì)量更優(yōu),價格更廉,制版更快的貼心服務。
光刻掩膜版加工最小尺寸
光刻膠和掩膜版哪個更重要?
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