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掩膜版光掩膜基版光掩膜光刻掩膜版

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IC（集成電路）行業(yè)專用光學(xué)掩膜版

2021-07-24

IC（集成電路）行業(yè)專用光學(xué) 掩膜版產(chǎn)品概述：可提供多種尺寸和規(guī)格的IC行業(yè)專用光刻掩模版，提供石英和蘇打3~14 inch的基材光掩模，制作精度覆蓋0....

什么是掩膜版？

2021-07-24

掩膜版，又稱作光刻版、光罩、光掩膜版，英文名稱PHOTOMASK，材質(zhì)有石英玻璃、蘇打玻璃、菲林版等，通過(guò)真空鍍膜形成鉻及鉻的氧化物光遮蔽層，再通過(guò)...

光刻掩膜版的儲(chǔ)存條件

2021-07-24

掩膜版需要保證表面的清潔度，一般要存放在潔凈室內(nèi)。潔凈室又被稱作無(wú)塵室和凈化車(chē)間，是指將一定空間范圍內(nèi)空氣中的浮塵、微粒子、細(xì)菌等污染物排...

光刻掩膜版制作流程

2021-07-24

光刻掩膜版制作流程步驟如下：　　步驟1、提供掩膜基板，在掩膜基板基板上涂覆一層光刻膠；　　步驟2、對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光、顯影，形成光刻膠圖...

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